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真空均質乳化設備

真空均質乳化設備

50L--2000LEV、CM系列真空均質乳化設備

用途:

EV、CM型系列乳化鍋是我廠制造的新型真空乳化裝置,該裝置吸收了國內外同類產品的優點,由有關專家成功設計,結構新穎,乳化效果好,能耗小,使用可靠,鍋內外拋光處理,美觀大方。

EV型特點:

乳化鍋乳化過程是在全密封條件下進行的,鍋內物料通過下均質機的高速內循環剪切混合乳化,上刮板攪拌器在運轉時產生離心作用,使四氟刮板緊貼鍋壁,有效的解決了鍋壁沾料問題,有效防止了灰塵和微生物的污染,乳化后的產品光亮細膩,顆粒直徑小可達3~5μm。



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